[center]السليكون المسامي Porous Silicon
[b][color=#99ff66][font='Blackadder ITC'][ندعوك للتسجيل في المنتدى أو التعريف بنفسك لمعاينة هذه الصورة]
منذ ان عرف العالم اشباه الموصلات والسليكون يعتبر من المواد الاساسية والمهمة
في الصناعات الالكترونية وذلك لكونة يعتبر مادة رخيصة ومتوفرة بشكل كبير حيث ان 25% من القشرة الارضية هو سليكا.
ولكون السليكون يعتبر من اشباه الموصلات ذات فجوة الطاقة غير المباشرة فلم يستخدم في مجال الكترونيات البصرية اما الان وبعد دخول العالم في ثورة الفيزياء النانو فقد تم استخدامة في مجالات عديدة مثل الخلايا الشمسية السليكونية العالية الكفأة, الدايودات الباعثة للضوء, المتحسسات الكيميائية ,الكواشف عالية الكفأة ,محززات في اجهزة الليزر (ايتالون) وكذلك كموجة للموجة.
ان المبدأ الأساسي الذي اعتمد علية العلماء في العمل على هذة المادة هو تحويل هذة المادة من شبة موصل ذو فجوة طاقة غير مباشرة الى شبة موصل ذو فجوة طاقة مباشرة تقريبا والتي اتفق على تسميتها " السليكون المسامي " بحيث يتم تنزيل احجام بلورات المادة السليكونية الاصيل من المايكرو متر الى بلورات باحجام نانو مما يؤدي الى خلق مادة هي سليكون ولكن خصائصها الالكترونية والكهربائية والتركيبية .........الخ تختلف تماما عن مادة السليكون الاصيلة.
ان طرق تحضير هذة المادة ( السليكون المسامي ) التي يمكن ان تستخدم في تطبيقات عديدة تعتبر جدا رخيصة وبسيطة مقارنة بالطرق المعقدة والمكلفة المستخدمة في مجال فيزياء الحالة الصالبة حيث يتم تحضير هذة المادة باستخدام الطرق ومن اشهرها الطرق التالية:
1- Electrochemical etching
2- Laser-induced etching
3- Photo-electrochemical etching
4- Stain etching
ان من اهم سمات هذة الطرق هي بساطة المكونات ورخص الكلفة كما اسلفنا حيث يمكن انتاج هذة المادة باستخدام احى هذة الطرق في اي معمل فيزيائي.
[b][color=#99ff66][font='Blackadder ITC'][ندعوك للتسجيل في المنتدى أو التعريف بنفسك لمعاينة هذه الصورة]
منذ ان عرف العالم اشباه الموصلات والسليكون يعتبر من المواد الاساسية والمهمة
في الصناعات الالكترونية وذلك لكونة يعتبر مادة رخيصة ومتوفرة بشكل كبير حيث ان 25% من القشرة الارضية هو سليكا.
ولكون السليكون يعتبر من اشباه الموصلات ذات فجوة الطاقة غير المباشرة فلم يستخدم في مجال الكترونيات البصرية اما الان وبعد دخول العالم في ثورة الفيزياء النانو فقد تم استخدامة في مجالات عديدة مثل الخلايا الشمسية السليكونية العالية الكفأة, الدايودات الباعثة للضوء, المتحسسات الكيميائية ,الكواشف عالية الكفأة ,محززات في اجهزة الليزر (ايتالون) وكذلك كموجة للموجة.
ان المبدأ الأساسي الذي اعتمد علية العلماء في العمل على هذة المادة هو تحويل هذة المادة من شبة موصل ذو فجوة طاقة غير مباشرة الى شبة موصل ذو فجوة طاقة مباشرة تقريبا والتي اتفق على تسميتها " السليكون المسامي " بحيث يتم تنزيل احجام بلورات المادة السليكونية الاصيل من المايكرو متر الى بلورات باحجام نانو مما يؤدي الى خلق مادة هي سليكون ولكن خصائصها الالكترونية والكهربائية والتركيبية .........الخ تختلف تماما عن مادة السليكون الاصيلة.
ان طرق تحضير هذة المادة ( السليكون المسامي ) التي يمكن ان تستخدم في تطبيقات عديدة تعتبر جدا رخيصة وبسيطة مقارنة بالطرق المعقدة والمكلفة المستخدمة في مجال فيزياء الحالة الصالبة حيث يتم تحضير هذة المادة باستخدام الطرق ومن اشهرها الطرق التالية:
1- Electrochemical etching
2- Laser-induced etching
3- Photo-electrochemical etching
4- Stain etching
ان من اهم سمات هذة الطرق هي بساطة المكونات ورخص الكلفة كما اسلفنا حيث يمكن انتاج هذة المادة باستخدام احى هذة الطرق في اي معمل فيزيائي.